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製品情報
モデル: TF-2006
ブランド: 天府市
包装: バイヤーの要求として
生産高: 100Ton
輸送方法: Ocean,Land,Air,DHL,TNT
原産地: 中国
についてのサポート: 50Ton
認証 : ISO
ポート: Shanghai port,Qingdao port
お支払い方法の種類: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
インコタームズ: FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
P−アセトキシスチレンは、フォトレジスト(フォトレジスト)の主成分としてのポリパラヒドロキシスチレンの合成に使用することができる。ポリ−p−ヒドロキシスチレン系の化学増幅型フォトレジストは、現在世界で主流のフォトレジスト製品であり、フォトエッチング集積回路の加工およびチップ製造のための重要な技術の1つである。フォトエッチング技術は、0.3〜0.28μmの線幅の製造から0.18μmの線幅を製造するための深紫外線(波長248nm)まで開発され、超深紫外線(波長193nm)を使用してトレースすることができる。線幅は0.11μmのマイクロ回路。 248nmフォトレジストは通常、光の下で光酸発生剤を放出するための化学増幅技術を使用して、光形成剤としてポリ-p-ヒドロキシスチレン誘導体、光酸発生剤としてアリールヨードニウム塩またはスルホニウム塩を使用する。これにより、感光性が大幅に向上します。
Metal Contents
|
AI | <10ppb | <1 |
Ca | <10ppb | 4.5 | |
Mg | <10ppb | <1 | |
Cu | <10ppb | <1 | |
Fe | <10ppb | <1 | |
Na | <10ppb | 9.2 | |
Ni | <10ppb | <1 | |
Zn | <10ppb | <1 | |
K | <10ppb | <1 | |
Mn | <10ppb | <1 | |
Cr | <10ppb | <1 | |
SN | <10ppb | 0.2 | |
AS | <01ppb | 0.3 |
Test Items | Specification | Results |
Appearance | Colorless Liquid | Colorless Liquid |
Purity (GC) | ≥99.0% (area) | 99.22% (area) |
(w/w%) Water content by KF |
≤0.10% | 0.02% |
Clarity (10%(w/w)Methanol Soivent) | Clear | Clear |
Total Acid Number | ≤100(mgKOH/L) | 13.8(mgKOH/L) |
Polymerization inhibitor |
200ppm-300ppm | 256 |
製品グループ : ファインケミカル
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